MultiPrep精密抛光系统:半自动样品制备的技术解析与应用
在材料科学与半导体工业的微观分析领域,样品制备的质量直接决定了显微观测与失效分析的成败。MultiPrep™精密抛光系统作为一款半自动样品制备平台,凭借其精确的几何控制与定量化材料去除能力,为光学显微镜、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)及原子力显微镜(AFM)等评估手段提供了可靠的制样保障。核心设计理念:消除人为变量传统手工抛光依赖操作者的经验与手感,样品平整度与去除量往往因人而异。MultiPrep系统的设计初衷正是解决这一不一致性问题。系统采用固定主轴结构,样品被夹具锁定后


