产品概述
YES TA系列真空固化/蒸气底漆系统使用六甲基二硅氮烷（HMDS）提供快速，均匀，经济的底漆，以改善光刻胶的附着力。 这些多功能系统还支持图像反转，以与正性抗蚀剂相同的分辨率和易用性形成负性图像。
有效的光致抗蚀剂附着力构成所有后续处理步骤的基础，并且只有上底漆的表面才能准确地复制亚微米CD，而不会出现底切或边缘不整齐的情况。 TA系统的真空固化可使基材脱水，从而使HMDS层具有出色的粘合力，即使暴露在大气中数周后仍保持稳定。

真空固化/蒸汽灌注与湿灌注：
•化学沉积的均匀性
•接触角在±3度以内
•防潮表面改性
•流程步骤之间的可用时间增加
•增强的光刻胶附着力
•与湿底漆相比，化学消耗量和化学成本更低
除了硅晶片处理之外，TA系列还可以用于砷化镓，铌酸锂和其他奇特材料的低温HMDS底涂。
TA系列的优点：
•N 2预热可防止箱体冷却。
•过滤机制减少了颗粒物的引入。
•电涌抑制系统可在盒带装入期间限制湍流。
•*的控制系统提供用户可选的温度，处理时间和腔室尺寸。
•在引入HMDS之前，为了安全起见，四个真空循环清除了O 2。