GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极（DC）直流溅射原理（二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。）设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用，且设备体积小巧，节约实验室空间；操作简单，适合初学人员使用。
产品名称 | GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪 | ||
产品型号 | GSL-1100X-SPC-16M | ||
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备需选配自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀） 4、工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通风装置：不需要 | ||
主要特点 | 1、设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。 2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得好的镀膜效果。 3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证使用不出现玻璃钟罩崩边现象。 4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。 5、根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。 6、溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。 7、可用水冷溅射头、水冷载物台。 | ||
技术参数 | 1、靶：Ø50mm 2、真空室：Ø160mm×120mm 3、真空度：≤4×10-2mbar 4、max电流：50mA（可选100mA） 5、可设定极限时间：9999s 6、微型真空气阀：连接Ø3mm软管 7、极限电压：1600V DC 8、机械泵：2L/s | ||
产品规格 | 尺寸：360mm×300mm×380mm | ||
标准配件 | 1 | 金靶材 | 1个 |
2 | 进气针阀 | 1个 | |
3 | 保险丝 | 2个 | |
可选配件 | 金、铟、银、铂等各种靶材 | ||
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