真空电子束蒸发镀膜系统产品特点
2026年03月26日 09:41:47
来源:智造先锋 >> 进入该公司展台
阅读量:1
DE400DUL 超高真空电子束蒸发镀膜系统
- 超高真空镀膜环境
- 样品可高温加热
- 样品可低温冷却
- 优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性
- 高精度镀膜速率和膜厚控制
- LOAD LOCK,全自动送样
- 可选离子束清洗或辅助沉积
- 可选RF等离子体清洗
- PLC+PC全自动控制
- 可沉积金属、半导体、介质材料.
- 可用于沉积单层、多层薄膜
- LIFT-OFF工艺蒸镀
- 低维材料制备
- 多种样品台或客制样品台制备特殊工艺薄膜
- 用于研发和中试
版权与免责声明:
1.凡本网注明"来源:全球制造网"的所有作品,版权均属于全球制造网,转载请必须注明全球制造网。违反者本网将追究相关法律责任。
2.企业发布的公司新闻、技术文章、资料下载等内容,如涉及侵权、违规遭投诉的,一律由发布企业自行承担责任,本网有权删除内容并追溯责任。
3.本网转载并注明自其它来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。
4.如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系。