一、具体规格
- 型号：NS-20UV
- 测量原理：白光干涉
- 操作方式：桌面式手动
- 波长范围：190 nm - 1100 nm
- 厚度测量范围：1 nm - 40 μm
- 测量准确度：1 nm 或 0.2%
- 测量精度：0.02 nm
- 单次测量速度：< 1秒
- 光斑大小：1.5 mm
- 光源类型：卤钨灯 + 氘灯
二、仪器主要特点
1、国产化与自动校准：NS-20UV 的软硬件实现了全国产自研，并具备自动校准功能，减少了频繁手动校准的麻烦，支持长时间稳定工作。
2、非接触与高稳定性：采用非接触式测量，不会损伤样品表面。仪器具有亚纳米级的精度和非常高的静态稳定性（0.02 nm），尤其适合测量软质或易受损的样品。
3、多层膜与智能算法：能够测量多层复合薄膜中各层的厚度。其核心算法可以一键式测量跨度很大的膜厚，简化了操作流程。
4、灵活便携：作为手动测量系统，它具有很高的灵活性，并可定制便携手提箱，方便在不同场所进行测量。
三、应用领域
这款仪器广泛用于需要精密膜厚检测的领域，包括半导体制造、显示面板、光伏产业、光学镀层以及学术研究等。
