JJF1613-2017掠入射X射线反射膜厚测量仪器校准规范
校准装置货号AUBAT-1613L
膜厚标准物质选取 3 个不同厚度的膜厚国家有证标准物质，厚度尺寸覆盖 70%的测量范围，并尽可能均匀分布; 200 nm 以下膜厚标准物质的扩展不确定度不大于3% (k=2)。
掠入射 X 射线反射膜厚测量仪器一般由准直的入射 X 射线光源、样品台、探测系统等部分组成。其工作原理为:当X射线以很小的角度入射到样品表面时会发生界面反射，经膜层后反射强度会发生变化，得到反射强度和反射角的关系，通过数据处理可得到膜层厚度。
计量特性
1 仪器 2θ 角示值误差及重复性
仪器 2θ 角示值误差应在±0.02以内;重复性以标准偏差表示，应不超过 0.002°
2膜厚测量示值误差
仪器膜厚测量示值相对误差应不超过±6 %。
3膜厚测量重复性
仪器膜厚测量重复性应不超过 1%。
仪器膜厚测量示值误差的不确定度评定示例
1 测量方法
仪器膜厚测量示值误差是用薄膜厚度标准物质进行校准的。设定好相关的测量程序和条件，并按要求进行必要的仪器预校准后，选择符合要求的具有明确材料和厚度的膜厚标准物质，测量认定值为 t的膜厚标准物质，仪器的测量示值t 与膜厚标准物质的认定值t,进行比较，计算仪器的示值误差 t 。本例中，分别以标称厚度为 10 nm、20 nm、50 nm、100 nm 的二氧化硅薄膜为例进行分析。
2 膜厚标准物质引入的不确定度分量 u2
膜厚标准物质引入的不确定度主要来源于膜厚标准物质的厚度测量结果不确定度可根据相关技术资料或校准证书给出的扩展不确定度来计算。
标称厚度为 10 nm 的膜厚标物，U(t)= 0.30 nm,k =2，则u2=U(t) /k =0. 15 nm
标称厚度为 20 nm 的膜厚标物，U(t) = 0.36 nm,k =2，则 u2=U(t) /k=0.18 nm
标称厚度为 50 nm 的膜厚标物，U(t) =0.50 nm,k =2，则u2=U(t) /k=0. 25 nm
标称厚度为 100 nm 的膜厚标物，U(t)=].70 nm,k=2，则u2=U(t) /k=0.85 nm
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