isishape HiperEtch®11S是含氟化物的蚀刻膏，用于在室温下蚀刻ITO玻璃上的SiO2层，同时可为网版印刷提供优越的条件。

产品特点
• 有选择性地在ITO上蚀刻SiO2 ，不会破坏ITO
• 快速蚀刻工艺： 2 - 3nm/s
• 易于清洗，不需要有机洗涤剂
• 冲洗剂的有机和氟化成分低
• 产品操作安全性高：
荧光色 (使用UV光易检测痕迹)
粘性产品(无泄漏、无飞溅)
• 低成本

特征
粘度：8-25 Pas (23°C, D=25s-1)
颜色: 粉红（pink）

蚀刻工艺
不同厚度的SiO2 层在室温下 蚀刻大约 2-5 分钟，处理时间越长说明线越宽。



isishape HiperEtch®11S是含氟化物的蚀刻膏，用于在室温下蚀刻ITO玻璃上的SiO2层，同时可为网版印刷提供优越的条件。

产品特点
• 有选择性地在ITO上蚀刻SiO2 ，不会破坏ITO
• 快速蚀刻工艺： 2 - 3nm/s
• 易于清洗，不需要有机洗涤剂
• 冲洗剂的有机和氟化成分低
• 产品操作安全性高：
荧光色 (使用UV光易检测痕迹)
粘性产品(无泄漏、无飞溅)
• 低成本

特征
粘度：8-25 Pas (23°C, D=25s-1)
颜色: 粉红（pink）

蚀刻工艺
不同厚度的SiO2 层在室温下 蚀刻大约 2-5 分钟，处理时间越长说明线越宽。

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