实验室高剪切胶体磨,实验室小型胶体磨,高剪切胶体磨,小型胶体磨,小型进口胶体磨
实验室高剪切胶体磨的特点:
① 配有博格曼双机械密封,以及密封液压系统,因此虽然一款中试设备,但同样具有生产的可靠性。
IKN密封件为双端面集装式密封,耐压性好,超高转速下拥有优异的密封表现。配有压力平衡罐,充入适当压力可保证机封上下端面受力平衡,同时运转时可通过自身偏心 结构的带来的泵环效应和热虹吸效应实现冷却水的自动循环。该循环系统为独立系统,与外界无接触,平衡罐内冷却液可选纯化水或合适的溶剂,有效避免普通冷却 自来水压力不稳和含有少量颗粒杂质对机封带来的损坏。
② 专为实验及中试型机器配备的变频控制柜,不仅可以设定不同功能模块,显示温度,控制转速,还可以显示与功能模块相匹配的各项参数,可供量产作数据记录。
③ CM2000/4为立式分体式结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。立式分体结构,通过皮带传动,并实现加速,加速比为3:1,即正常50HZ频率下转速为7890RPM,外加变频可达13789RPM。。PP2000/4转子的直径为55mm(转速相较其它厂家2900转左右高出约三倍).
④ 具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液,悬浮液和胶体的均质混合。高剪切分散乳化机由定/转子系统生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。 李佩佩
工作原理:胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
与大型生产胶体磨的线速度,实验室小试的目的是为了给工业化生产提供有力的数据参数,所以在选择小试设备的时候要考虑到小试设备的效果是否与工业化设备相符合,如果不相匹配小试就失去了它的意义,IKN小试胶体磨和工业化胶体磨的线速度是一样的,这样就保证了小试和生产的效果。
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
胶体磨材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
胶体磨选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
胶体磨表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
胶体磨选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
胶体磨 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CM 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM 2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM 2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
CM 2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM 2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM 2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
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