产品介绍
离子束与等离子体及其控制,是scia的技术核心,其所有设备的之处,都在于此。
射频RF离子源采用ICP激发等离子体,内置RF匹配与产生器,具有多种圆形口径,直径450mm。 可移动的离子源,自带有射频匹配器,特别适合于离子束抛光的应用。
微波MW离子源采用电子回旋共振ECR激发等离子体,不仅有圆形口径,也有长条矩形源,矩形源可以通过增加射频头来增加长度,最长可达2m。
系统参数
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产品介绍离子束与等离子体及其控制,是scia的技术核心,其所有设备的之处,都在于此
产品介绍
离子束与等离子体及其控制,是scia的技术核心,其所有设备的之处,都在于此。
射频RF离子源采用ICP激发等离子体,内置RF匹配与产生器,具有多种圆形口径,直径450mm。 可移动的离子源,自带有射频匹配器,特别适合于离子束抛光的应用。
微波MW离子源采用电子回旋共振ECR激发等离子体,不仅有圆形口径,也有长条矩形源,矩形源可以通过增加射频头来增加长度,最长可达2m。
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