双靶磁控溅射设备
1.设备性能:
该设备是一台单腔室磁控溅射设备,可溅射各种金属材料,真空腔室选用优质304不锈钢加工 圆柱型尺寸350mm*300mm,前开门结构;顶部安装有2支2英寸磁控靶(与基片台距离可调),每只靶配单独挡板;底部装有样品台 可旋转 可加热,内配有照明系统 可照明 ;前面配有观察窗;真空获得系统安装于真空室侧面 包括600分子泵,4L机械泵,压差阀,波纹管软连接,电控系统一套包括相序保护,真空控制系统;真空检测系统 真空计;
设备采用 进口检漏仪检漏 漏率超过5*10-10Pa/l/s;
极限真空可达5*10-5Pa;
抽工作真空7*10-4小于30分钟
所有评论仅代表网友意见,与本站立场无关。