产品名称：SWC-4000兆声晶圆清洗机

产品特点：SWC-4000兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-4000兆声晶圆清洗机应用：

·带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

·Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗

·CMP处理后的晶圆片清洗

·晶圆框架上的切粒芯片清洗

·等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

·带保护膜的分划版清洗

·掩模版空白部位或接触部位清洗

·X射线及极紫外掩模版清洗

·光学镜头清洗

·ITO涂覆的显示面板清洗

·兆声辅助的剥离工艺

特点：

·支持12"直径的圆片或9"x9"方片

·独立系统

·无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干

·微处理机自动控制

·化学试剂滴胶单元

·溶剂与酸分离排废

·热氮

·30"D x 26"W 的占地面积

选配项：

·掩模板或晶圆片夹具

·臭氧清洗

·PVA软毛刷清洗

·高压DI清洗

·氮气离子发生器