日本JEOL 能量色散型X射线荧光分析仪 JSX-1000S

JSX-1000S型X射线荧光光谱仪采用触控屏操作、提供更加简便迅速的元素分析。具备常规定性、定量分析（FP法・检量线法）、RoHS元素筛选功能等。　 利用丰富的硬件/软件选配件、还能进行更广泛的分析。

产品规格 。FIB

。检测元素范围：Mg～U

。X射线发生装置：5～50　kV , 1mA

。靶材：Rh

。一次滤波器　 多9种　自动交换：标准：OPEN, ND, Cr, Pb, Cd

选配：Cl, Cu, Mo, Sb

。准直器3种　自动交换：, 2mm, 9mm

。检测器：硅漂移检测器（SDD）

。样品室尺寸：300mmφ×80mmH

。样品室气氛：大气　/　真空(选配）

。样品室观察机构：彩色摄像机

。操作用电脑：Windows ®　触控屏 台式电脑

。分析软件（标准）：定性分析（自动定性、KLM标记、和峰显示、谱图检索）
定量分析（块状FP法、检量线法）
RoHS分析解决方案（Cd, Pb,Cr, Br, Hg)
简易分析解决方案
报告制作软件

。分析软件（选配）：薄膜FP法分析软件
关联滤波器FP法分析软件

。日常检查软件（标准）：管球升压、能量校正、强度校正

Windows ® 为美国微软公司在美国或其它国家的注册商标或商标。

• 主要附件
• 样品室真空排气单元
• 多样品自动交换单元
• 滤波器组
• 滤膜FP 法分析软件
• 薄膜FP 法分析软件
• 和峰 软件
• 镍镀层筛选解决方案
• 锡镀层筛选解决方案
• 氯元素筛选解决方案

产品特点：

· JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后，就能对样品表面进行SIM观察 、研磨，沉积碳和钨等材料。还可以为TEM成像制备薄膜样品，为观察样品内部制备截面样品。通过与SEM像比较，SIM像能清楚地显示出归因于晶体取向不同的电子通道衬度差异，这些都非常适合于评估多层镀膜的截面及金属结构。

· 高性能FIB镜筒

· JIB-4000采用高性能的FIB镜筒， 离子束流高达 60 nA，能进行快速研磨。大电流下的快速加工尤其适合于大面积的研磨，制备100 μｍ以上用来观察的截面非常轻松。

· 用户友好的FIB装置

· JIB-4000高性能的 FIB镜筒具有出色的可操作性。用户友好的外观和GUI设计，建立了使用方便的FIB系统。即使不是FIB专家也能够轻松操作，此外，该装置小巧紧凑为业界 小体积，安装地点的选择范围很大。

· 双样品台

· JIB-4000标配的块状样品马达驱动样品台可供块状样品使用，此外还可以增配侧插式测角台（TEM用Tip-on 样品架可以直接插入）。块状样品马达驱动样品台能观察整个表面为20 mm x 20 mm的块状样品，样品交换可以通过气锁式系统快速进行。侧插式测角台与JEOL的TEM系统使用的相同，因此Tip-on （上可以安装附件的）样品架与JEOL的TEM系统可以通用，这样，FIB加工和TEM观察的反复交替就能很容易地进行。

· 丰富的附件

· 有各种附件可用来支持JIB-4000的操作。包括对电路修改应用特别有效的CAD导航系统，对特殊形状加工有效的矢量扫描系统等。通过给JIB-4000安装适当的附件，该系统可以支持样品制备以外的应用。