JBX-9500FS 电子束光刻系统
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具 高水平的产出量和定位精度, 大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
产品特点:
·JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具 高水平的产出量和定位精度, 大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
·此外,由于具有100MHz的 快扫描速度,场尺寸在1000µm×1000µm时的套刻精度达到±11nm、场拼接精度为±10nm、写场内位置精度达±9nm,是兼具 高水准产出率和位置精度的100kV圆形束光刻系统。
·由于采用的位置偏转DAC为20位,扫描DAC为14位,能获得的扫描步距,分辨率更高,描画数据增长1nm,可以更忠实地再现描画数据。
·快达到100MHz的高速化扫描速度,保证了大电流描画时的扫描步距很短,因而能提高对精度要求的图形描画的产出量。
·由激光束控制(LBC)的(λ/4096)的 小定位单位及高分辨率,达到了 高水准的位置精度。
·本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能),实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间(任意的)、场和图形进行分别设定,非常适合于及休假等无人值守等情况下的长时间描画。
·该系统 大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的光掩模版,适合于纳米压印、光子器件、通信设备等各种领域的研发及生产。采用材料卡匣传送系统(选配), 多可装载10个卡匣。
·利用微间距控制程序(场尺寸微调程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光栅。
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