德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 2000/4000

DWL 2000 是一种高速，高适应性，高精度的掩模激光直写系统。除了擅长绘刻各种2D图形，也可以在厚胶板材上绘刻3D图形。

刻写 大面积达到200 x 200 mm2 ，该系统是MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs及其它需要刻画微观结构应用的.

。刻写 大面积 200 x 200 mm2

。刻写 小结构尺寸 μm

。 小分辨距离 10 nm

。多种曝光模式

。3D 曝光模式

。CCD成像坐标校准系统

。双面校准系统

。带温度控制的机壳

。可选配客户的激光光源

。光学及气压控制自动对焦

。脚本扩展功能

。支持多种客户图形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

。在线图形数据传输

。平台坐标矩阵校正

。自动上板系统

应用于高分辨率掩膜版制作的激光成像设备

DWL 4000平台移动范围达到400 mm x 400 mm，可以的支持高精度的掩模板和干板绘刻。DWL 4000可应用于MEMS, SAW Devices, ASICS, MCMs等复杂的微观集成光路和显示技术。

DWL 4000分为两种型号，一种为DWL 4000DD，一种为DWL 4000FBM。除了传统的2D绘刻功能外，新型设备还支持复杂的3D图形绘刻，例如：利用灰阶技术去制作微光学应用。

。刻写 大面积 400 x 400 mm2

。刻写 小尺寸结构 μm

。 小分辨距离 10 nm

。多种曝光模式

。自动更换写头

。高级3D曝光模式

。测量及校准系统

。带温度控制的机壳

。可选配客户的激光光源

。在线图形数据传输

。自动上板系统

。支持多种客户图形格式 (DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

。平台坐标矩阵校正