可在基本的水显影剂中显影的负性光刻胶

特性
厚度范围 lt;0.1-120.0 µm
对波长小于380nm的灵敏度
优于表面拓扑的线宽控制
直侧壁适合任何膜厚
能够在单次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于应用了150°C的软烘烤，烘烤时间更短（对于厚膜至关重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，从而提高蚀刻速率和蚀刻产量
消除使用粘合促进剂


RIE /离子耐高温 厚度 湿法蚀刻 厚度
增强附着力

NR7-250P 0.2um-0.6um NR9-250P 0.2um-0.6um
NR7-1000P 0.7um-2.1um NR9-1000P 0.7um-2.1um
NR7-1500P 1.1um-3.1um NR9-1500P 1.1um-3.1um
NR7-3000P 2.1um-6.3um NR9-3000P 2.1um-6.3um
NR7-6000P 5.0um-12.2um NR9-6000P 5.0um-12.2um
NR5-8000 5.8um-100.0um NR9-8000P 6.0μm-100um

耐温性= 150°C 在低于120°C的处理温 耐温性= 100°C。
度下可在25°C剥离NR5和NR7系列抗蚀剂 NR9系列抗蚀剂具有增强的附着力
在25°C时易于剥离。

Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR
抗蚀剂分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm线/间隔
曝光剂量：1100 mJ / cm 2。
焦点偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步进土星
模型，i-line

另有：NR9G g和h线曝光用粘度增强 具有高粘附性适用于电镀及湿法蚀刻
NR71G g和h线曝光用于干法蚀刻中掩模应用并能作为隔层

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