广告招募

当前位置:全球制造网 > 技术中心 > 采购指南

多电子枪蒸发镀膜系统产品特点

2026年07月30日 10:20:23      来源:创新制造 >> 进入该公司展台      阅读量:6

分享:

   DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统配置三(四或六)个电子束蒸发源,可在基片共蒸发金属、半导体或介质材料。
  1、核心配置
  - 电子枪:三个(或四个)(或六个)
  - 镀膜环境:高真空或超高真空
  - 样品处理:可高温加热、可低温冷却
  - 镀膜性能:优质薄膜质量,具备良好的膜厚均匀性和重复性;高精度镀膜速率和膜厚控制
  2、可选功能
  - 送样功能:可选LOAD LOCK,全自动送样
  - 清洗功能:可选离子束清洗或辅助沉积、可选RF等离子体清洗
  3、控制方式
  - PLC+PC全自动控制
  4、主要技术指标
  - 极限真空度:3E-8Torr
  - 基片尺寸:可选:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
  - 膜厚均匀性:优于+/-3%
  - 蒸发速率分辨率0.01 A/s
  - 膜厚分辨率0.1A
  4、应用范围
  - 可沉积材料:金属、半导体、介质材料
  - 镀膜类型:可用于沉积单层、多层膜;可共蒸合金膜;可进行LIFT-OFF工艺蒸镀
  - 其他应用:低维材料制备
  - 适用场景:研发和中试或量产
版权与免责声明:
1.凡本网注明"来源:全球制造网"的所有作品,版权均属于全球制造网,转载请必须注明全球制造网。违反者本网将追究相关法律责任。
2.企业发布的公司新闻、技术文章、资料下载等内容,如涉及侵权、违规遭投诉的,一律由发布企业自行承担责任,本网有权删除内容并追溯责任。
3.本网转载并注明自其它来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。 4.如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系。