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樫山工业干式真空泵-玉崎半导体(深圳)有限公司

2026年07月06日 18:07:40      来源:创新制造 >> 进入该公司展台      阅读量:24

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樫山工业干式真空泵是樫山工业(Kashiyama)旗下,面向半导体与**制程的新一代超节能干式真空泵,属于MU‑GX的国际版/升级线,核心定位:高效、洁净、低噪、智能。  
一、定位与关系:  
品牌:樫山工业(Kashiyama)  
系列:NeoDryG(简称ND‑G)  
对应国内型号:MU‑GX系列(同平台,命名差异)  
定位:替代传统MU‑P/H、MU‑X,主打节能+小型化+高真空+智能化,对标国际一线干式泵。  
二、Kashiyama日本樫山工业干式真空泵核心参数:  
电源:三相200V/400V(50/60Hz)  
噪音:≤52dB(比同级别低3–5dB)  
接口:进气NW40/NW80,排气NW40  
材质:腔体/转子不锈钢+陶瓷涂层,无油高洁净  
三、关键优势:(对比老款MU系列)  
节能(*大卖点)  
比MU‑P/H省电40%–50%  
比MU‑X再省10%–15%  
待机功耗<0.1kW,长期运行电费显著降低  
小型化+轻量化  
体积比MU‑P/H小30%–40%,重量轻20%–30%  
节省洁净室空间,安装更灵活  
高真空+高洁净  
极限真空可达0.5Pa,满足半导体刻蚀、沉积等严苛工艺  
无油设计,腔体涂层防腐蚀、防粉尘,适配高洁净环境  
智能控制+低维护  
标配Modbus‑RTU,支持远程监控、自诊断、变频调速  
支持N₂吹扫(0–30SLM),防结露、防腐蚀,延长寿命  
四、适用场景:  
半导体:刻蚀、PECVD、离子注入、晶圆清洗  
光学/镀膜:溅射、蒸发、OLED、真空热处理  
分析仪器:质谱、SEM、XRD(低噪音+高稳定)  
精密化工:蒸馏、干燥、结晶(无油污染+节能)  
五、与樫山其他系列的区别:  
NeoDryG(MU‑GX):超节能+小型化+高真空,****  
MU‑X:标准节能型,性价比高,常规洁净工艺  
MU‑P/H:通用/耐腐蚀型,重工况、高水汽、腐蚀环境  
SD系列:大流量螺杆泵,抽速10,000–100,000L/min,整线大系统  
  
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