双螺杆转子无接触啮合，wan全无油，压缩比高、排气量大、耐腐蚀、低粉尘堆积。
主流型号（抽速m³/h）
SDP‑250、SDP‑400、SDP‑600、SDP‑800、SDP‑1200
Osaka大阪真空分子泵无油清洁型核心特点：
无油清洁，无返油污染，满足半导体洁净要求
可耐轻微粉尘、酸性/腐蚀性气体（刻蚀、CVD）
水冷/风冷可选，低噪音、低振动
支持EtherCAT/RS485，可接入自动化产线
适用：
PVD、CVD、刻蚀、晶圆制程、真空镀膜、锂电注液/烘烤
二、CDP系列爪式干式真空泵（紧凑型、小型腔体**）
原理：
爪型转子干式压缩，结构简单、体积小、维护成本低。
主流型号：
CDP‑180、CDP‑250、CDP‑350
核心特点：
体积紧凑，适合设备内置、小型真空腔体
无油，低粉尘耐受性，日常维护简单
性价比高，中小型真空设备标配
适用：
小型镀膜、分析仪器、实验室、半导体辅助设备、检漏
三、VDP系列涡旋式干式真空泵（超高洁净、微流量精密型）
原理：
涡旋盘压缩，真正无油、无磨损、零微粒，洁净等级*高。
主流型号：
VDP‑30、VDP‑60、VDP‑100
核心特点：
超洁净，几乎无颗粒产生，适合超精密制程
振动极低、噪音小
小抽速，用于前级预抽、腔体粗抽
适用：
**半导体、超高真**级泵、质谱、分析仪器、光刻配套
四、MDP系列多级罗茨干式真空泵（大流量、高真空干式机组）
原理：
多级罗茨串联干式结构，大抽速+极限真空高，直接替代油式罗茨泵。
主流型号：
MDP‑1500、MDP‑2000、MDP‑3000
核心特点：
超大抽速，适合大型腔体、连续生产线
干式无油，耐腐蚀，可处理工艺废气
适合长时间24h连续运转
适用：
大型镀膜线、光伏、FPD面板、大型热处理、半导体量产线
五、防腐专用系列（半导体刻蚀/沉积专用）
SDP‑O/CDP‑O防腐型
转子+腔体做特氟龙涂层、耐氟/氯/酸性气体
专门应对刻蚀、PECVD、蚀刻废气、副产物粉尘
大阪真空干式泵防腐版本在日系品牌里口碑ji强
六、四大干式泵快速选型对比
精密洁净、小流量、超高真**级→VDP涡旋式
中小型腔体、性价比、设备内置→CDP爪式
半导体通用主力、耐腐蚀、中等大流量→SDP螺杆式
大型产线、超大抽速、量产设备→MDP多级罗茨式
