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BARA荏原干式真空泵-玉崎半导体(深圳)有限公司

2026年07月06日 17:52:58      来源:创新制造 >> 进入该公司展台      阅读量:14

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一、日本进口BARA荏原干式真空泵关键特点:  
多级罗茨结构:高抽速、低脉动、适合大量副产物/腐蚀性气体。  
低能耗:较传统干式泵省电30%+;50/60Hz性能一致。  
耐腐蚀:标准防腐材质,可选强化防腐,适配刻蚀/CVD等严苛工艺。  
水冷+智能控制:高温稳定运行;SEMI‑S2/CE/NRTL认证。  
无油洁净:无油,满足半导体高洁净要求。  
三、典型应用:  
半导体:CVD、PECVD、ALD、RTP、刻蚀。  
光伏/液晶:镀膜、扩散、刻蚀等高负荷工艺。  
化工/通用真空:腐蚀性气体、高排气量场景。  
四、电源与冷却:  
电源:3相200V(50Hz)/200–220V(60Hz)。  
冷却水:3–8L/min(依型号)。  
氮气吹扫:15–20L/min(防粉尘/结垢)。  
五、运用场景:(一句话总结:高负载、多副产物、腐蚀性、大抽速工艺**)  
1)半导体(*核心)  
2)显示面板(LCD/OLED)  
3)光伏(PERC、TOPCon、HJT)  
4)化工/通用真空  
5)科研/高能物理  
太空模拟舱、加速器、大腔体高真空排气  
腐蚀性气体、溶剂蒸气、大量粉尘/聚合物  
真空干燥、反应釜、蒸馏、冶金热处理  
扩散、PECVD、镀膜、刻蚀高负荷产线  
硅粉、浆料副产物多,要求耐高温+防结垢  
大型玻璃基板PECVD、溅射(Sputter)、镀膜  
高粉尘、大排气量、长时间连续运行  
CVD/PECVD/LPCVD/HDP‑CVD/MOCVD(二氧化硅、氮化硅、金属有机副产物多)  
ALD、RTP、刻蚀(Etch)(含氟/氯腐蚀性气体、粉尘)  
LoadLock/传输腔粗抽(大流量、频繁启停)
玉崎半导体(深圳)有限公司
日本京都玉崎资源旗下子公司,成立于2026年,总部位于日本大阪,是一家专注于半导体全品类产品贸易、技术配套及供应链服务的专业化企业,深耕半导体行业多年,聚焦全球**半导体资源整合与国产化替代配套,助力国内半导体产业高质量发展,与深圳市京都玉崎电子有限公司为关联企业专攻半导体细分赛道。
公司主营范围涵盖半导体全产业链相关产品,包括但不限于:集成电路(IC)、功率半导体(SiC/GaN、MOSFET、IGBT)、被动元件(电阻、电容、电感)、半导体设备及配件、耗材、传感器、光电器件等,广泛适配光伏储能、新能源汽车、工业控制、消费电子、通信设备、半导体制造、医疗电子、大学院校等核心应用领域。
 
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