薄膜应力测试仪详情介绍

优势

✔️ 全口径均匀采样测量，采样间隔最少可至0.1mm

✔️ 同时具备翘曲测量及应力测量功能

✔️ 全直观展现薄膜导致的晶圆形变，可计算整面应力mapping和任意角度的曲率及应力

✔️ 全丰富的软件分析功能，包括：三维翘曲图、晶圆翘曲参数统计（BOW，WARP等）、ROI分析、薄膜应力及分布、应力随时间变化、薄膜应力变温测量、曲率计算、多项式拟合、空间滤波等多种后处理算法。

薄膜应力测试仪适用对象

✔️  2-8 英寸透明、半透明或非透明的抛光晶圆（硅、砷化镓、钽酸锂、玻璃、蓝宝石、磷化铟、碳化硅、氮化镓等材质）、键合晶圆、图形晶圆、方形玻璃等。

✔️ 可检测经过薄膜工艺处理后的透明、半透明或非透明表面，薄膜材质包含且不限于：Si、 SiO2、SiN、三氧化二铝、光刻胶、金属薄膜、胶黏剂、纳米高分子膜、有机/无机杂化膜等。

适用领域

✔️ 半导体及玻璃晶圆的生产和质量检查

✔️ 半导体薄膜工艺的研究与开发

✔️ 半导体制程和封装减薄工艺的过程控制和故障分析

测量原理

1. 晶圆制程中会在晶圆表面反复沉积薄膜，基板与薄膜材料特性的差异导致晶圆翘曲，翘曲和薄膜应力会对工艺良率产生重要影响

2. 采用结构光反射成像方法测量晶圆的三维翘曲分布，通过翘曲曲率半径测量来推算薄膜应力分布，具有非接触、免机械扫描和高采样率特点，6英寸晶圆全口径测量时间低于30s

3. 通过Stoney公式及相关模型计算晶圆应力分布

MKW-3800 技术规格

项目参数

测量对象2英寸-8英寸抛光/图形晶圆

采样间隔均匀全口径采样，最小采样间隔0.1mm

测量时间单次测量时间 <30s （6英寸晶圆全口径）

三维翘曲翘曲测量范围0.5μm-5000μm*

重复性0.2μm或1%精度0.5μm或1.5%

薄膜应力应力测量范围1 MPa - 10000 MPa

曲率测量范围0.5m-10000m

曲率半径重复精度<1% 1σ (@曲率半径25 m)

薄膜应力重复精度1.5MPa或1%

工作软件Stress Mapper 软件：采图、测量控制及计算分析

软件功能三维翘曲显示、晶圆翘曲参数统计（BOW，WARP等）、薄膜应力及分布、时变稳定性分析、多种拟合算法、空间滤波算法等

上海麦科威晶圆翘曲应力测量仪将全口径翘曲、应力、表面瑕疵等分析整合进入每一次测量，确保我们的客户能够快速确认工艺。