SRS 的 100 amu 残余气体分析仪提供优秀的性能和价值。这些 RGA 提供真空系统的详细气体分析，价格仅为竞争型号的一半。每个 RGA 系统都配有一个四极杆探头、电子控制单元 (ECU) 和一个用于数据采集和分析以及探头控制的实时 Windows 软件包。
RGA100残余气体分析仪主要应用场景:
（1）真空系统泄漏检测
原理：
当真空系统存在泄漏时，外部空气（含氮、氧、水蒸气等）会渗入系统，导致特定气体分压异常升高。RGA100通过检测这些气体的分压变化，可定位泄漏源并评估泄漏速率。
优势：
相比传统氦质谱检漏仪，RGA100无需额外注入示踪气体（如氦气），可直接分析系统内自然存在的气体成分，适用于复杂真空环境的长期监测。
（2）真空系统污染分析
应用场景：
在半导体制造、真空镀膜、高能物理实验等领域，真空系统内的污染（如油蒸气、有机物、金属颗粒）会严重影响工艺质量。RGA100可检测污染气体的成分及来源，指导系统清洗或工艺优化。
案例：
在半导体光刻机中，RGA100可监测真空腔体内的碳氢化合物污染，防止其沉积在光学镜片上导致性能下降。
（3）材料放气分析
原理：
材料（如金属、陶瓷、聚合物）在真空环境下会释放吸附的气体（如水蒸气、CO?、有机溶剂），称为“放气”。RGA100可分析材料放气的成分及速率，评估材料对真空系统的污染风险。
应用：
在航天器真空热试验中，RGA100用于监测卫星表面材料的放气特性，确保在轨运行时不会因气体释放导致仪器故障。
（4）工艺过程控制
半导体制造：
在化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）等工艺中，RGA100可实时监测反应腔体内的气体成分，确保工艺参数（如气体流量、比例）符合要求，提高产品良率。
真空镀膜：
通过分析镀膜过程中产生的气体（如氩气、金属蒸气），可优化镀膜参数（如溅射功率、气压），改善膜层质量。
