光催化设备的原理
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要几的高温。
光催化设备的原理
从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。
常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。
相对而言，Ti02的综合性能较好，是*广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。