名 称：铬 | 熔 点：1907℃ |
高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有 抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电 等特点，可 用于半导体、芯片 电子产品、显示屏以及 光学材料镀膜。 | |
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名 称：铬符 号：Cr原子量：51.9961熔 点：1907℃沸 点：2671℃密 度：7.19g/cm3 高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电等特点，可用于半导体、芯片电子产品、显示屏以及光学材料镀膜
名 称：铬 | 熔 点：1907℃ |
高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有 抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电 等特点，可 用于半导体、芯片 电子产品、显示屏以及 光学材料镀膜。 | |
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