EVG®620NT SmartNIL®UV纳米压印光刻系统

具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVGSmartNIL®技术，可达100 mm

技术数据

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称，以小的占位面积提供了新的掩模对准技术。操作员友好型软件，短的掩模和模具更换时间以及服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVGSmartNIL技术。

SmartNIL是的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的，高产量的替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板

特征

顶侧和底侧对齐能力

对准台

自动楔形补偿序列

电动和配方控制的曝光间隙

支持新的UV-LED技术

小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换重组

台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：键对齐、红外对准、SmartNIL 、µ接触印刷

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：150毫米的碎片

SmartNIL®：长达100毫米

解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源